Вы здесь
Очистка воды и водоподготовка для микроэлектроники
Установки получения ультрачистой, глубоко обессоленной воды в соответствии с технологическими требованиями к очищенной воде используемой в производстве полупроводниковых микроэлементов, жидкокристаллических дисплеев, электронных плат.
ГОСТ 6709-72 «Вода дистиллированная. Технические условия»
- ОСТ 11. 029.003 – 80. «Изделия электронной техники. Вода, применяемая в производстве. Марки, технические требования, методы очистки и контроля»;
- D5127-90 на воду для электроники Американского общества измерений и материалов (ASTM);
- другим отраслевым стандартам, требованиям фирм-производителей;
- Удельное электрическое сопротивление очищенной воды для микроэлектроники до 18 МОм*см (деионизованная вода).
Установки водоподготовки для микроэлектроники включают следующие узлы:
- предварительная механическая очистка;
- обессоливание (одно, либо двухступенчатое) методом обратного осмоса;
- Н-катионирование, ОН-анионирование;
- декарбонизация и деаэрация;
- электродеионизатор;
- другие методы и различные варианты их сочетания.
